Ανάγλυφη εκτύπωση με ανακλαστικό μελάνι σιλικόνης

Είναι'
Εκτυπώσεις:
1.PrintembossedsiliconeinkXG-360KY-65orXG-360KY-55, mixtureratio: add10gcatalystXG-360BH με 100gsiliconeinkbase.
2. Placethegarmentprintededithossedsiliconeinkinembossedmachine.Moldabove: 180 ℃; Moldbelow: 80-120 ℃; Pressseconds: 20
3. Αφροτυπωμένο αποτύπωμα, pleepintintiliconeinkXG -866 AH (μικτή χρωστική) ενισχυτές, flasheverylayersurfacedrybytableovenordryer (120 ℃).
4. Printglossysiliconeink (XG-399-3) 1-2 στρώσεις, ευχάριστα ψεκασμό ψεκασμού, φθορά σιλικόνης, ψεκασμός στην επιφάνεια.